在2021年的芯片短缺后，各国开始重视芯片生产质与量。而光刻机作为芯片生产的必要工具，自然而然地成为各国关注的焦点和中心。
在这样的背景下，谁能够拿下光刻机技术，就可以抢占芯片制造的高点。
光刻机的工作原理，与胶片冲洗的原理有着一定的相似性。胶片冲洗是将胶片上的信息冲洗到特殊的照片纸上，而后经过化学溶液的特殊处理，让照片得以保留。
而光刻机则是通过掩膜版和光刻机之间的完美配合，可以将位于芯片上的电路，一个个的复制到光刻胶刻膜上，利用光电最终将整个电路誊在晶圆上。晶圆此前已经经过特别的处理，具有光敏感性，EUV所释放的紫外光可以轻松的识别，在晶圆上刻出电路。
这个看似简单的操作方式，却凝聚了光学顶尖技术，这也是很多国家，包括我国，尽管已经是芯片生产大国的，但是仍然没有拥有自主研发设计的光刻机。
根据光刻机的工作原理我们可以发现，激光器是整个光刻机技术的核心。控制着整个光源能力的高低，对于制程工艺也有着决定性的影响。
随着半导体工业整体水平提升，光刻机的激光也在不断的缩短，现在已经进入了仅有193nm的紫外光地步。我们的光刻机也从DUV时代，正式进入了EUV时代。
在这样的情形下，光源成为了光刻机的制造的关键之一，波长短对光刻机的工艺起到了决定性的作用。在我们通常的印象里，掌握的核心技术，即可开发出某一产品。但是在光刻机这方面，似乎这个常理并不成立。